Prinċipju tal-Inċiżjoni tal-Plażma

Inductively Coupled Plasma Etch (ICPE) huwa r-riżultat ta 'kombinazzjoni ta' proċessi kimiċi u fiżiċi. Il-prinċipju bażiku tiegħu huwa li, taħt vakwu u pressjoni baxxa, il-frekwenza tar-radju ġġenerata minn provvista ta 'enerġija ICP RF toħroġ għal coil ta' akkoppjar torojdali. Gass mħallat ta' l-inċiżjoni f'ċertu proporzjon huwa akkoppjat ma' discharge li tiddi, li tiġġenera plażma ta'-densità għolja. Taħt l-influwenza tal-RF fl-elettrodu tal-qiegħ, din il-plażma tibbumbardja l-wiċċ tas-sottostrat, u tkisser ir-rabtiet kimiċi tal-materjal semikonduttur fiż-żona tad-disinn tas-sottostrat. Dawn is-sustanzi volatili jirreaġixxu mal-gass tal-inċiżjoni biex jiffurmaw komposti volatili, li mbagħad jisseparaw mis-sottostrat bħala gassijiet u jiġu ppumpjati barra mil-linja tal-vakwu.